EN 6786 Hoog Fosfor Chemisch Nikkel Plateren
EN 6786 Hoog-fosfor Chemisch Nikkel Plateren is een nieuw type chemisch nikkel-fosfor legering plateringsproces. Dit proces vertoont uitstekende stabiliteit met een hoog fosforgehalte van 10 tot 14 (wt.%), en een maximale afzettingssnelheid van 10-18 micrometer per uur. EN 6786 levert semi-glanzende tot glanzende coatings met uitstekende corrosiebestendigheid die voldoen aan de MIL.SPEC.26074D en AMS.2404B standaarden.
I. Coating Kenmerken
- Magnetisme: Niet-magnetisch
- Fosforgehalte (wt%): 10 - 14
- Coatingdichtheid (g/cm³): 7.1 - 7.9
- Smeltpunt (°C): 860 - 950
- Elektrische weerstand (μΩ•cm): 40 - 100
- Hardheid (HV): 500 - 600
- Hardheid na warmtebehandeling (HV, 400°C gedurende 1 uur): 900 - 1000
- Neutrale zoutsproeitest (ASTM B117): Meer dan 1000 uur bij 35°C, 5% NaCl
- Salpeterzuurtest (68% geconcentreerd salpeterzuur, kamertemperatuur): Geen kleurverandering na 1 minuut of meer
II. Proces Kenmerken
- Snelle afzettingssnelheid: 10-18 μm/h
- Hoog fosforgehalte, niet-magnetische coating met uitstekende corrosiebestendigheid en ductiliteit
- Uitstekende stabiliteit met een levensduur van meer dan 8 cycli
- Lage coatingporositeit, geen porositeit tot 15 μm, sterke corrosiebestendigheid
- Breed scala aan badbelasting: 0.2-2 dm²/L
III. Bereiding van Plateringsoplossing
| Samenstelling en bedrijfsomstandigheden |
Procesparameters |
| EN 6786 A |
60 ml |
| EN 6786 B |
180 ml |
| pH |
4.2 - 5.0, pH aanpassen met ammoniakwater |
| Temperatuur |
85 - 90 ℃ |
| Werkbelasting |
0.2-2 dm²/L |
| Agitatie of roeren |
Luchtagitatie voor filtratie |