Het nikkel zuivert P3; Reiniging van onzuiverheden door nikkelplateren
- Het heldere nikkel is één van de wijdst gebruikte het plateren species in de galvaniserende industrie. De onzuiverheid van chemische grondstoffen, delen die in de platerentank, het hangermeevoeren, en de verkeerde toepassing vallen kan de accumulatie van Cu2+, Zn2+, Cr3+, Fe2+ en andere onzuiverheden in het bad veroorzaken, dat ernstig de verschijning en de kwaliteit van de deklaag beïnvloeden. De traditionele behandelingsmethode is onzuiverheden te verwijderen en de platerenoplossing te zuiveren door precipitatie-filtratie en elektrolyse met regelmatige intervallen. Dit proces moet gewoonlijk productie tegenhouden, maar ook diverse behandelingsreagentia en nikkelzouten verbruiken, en milieuvervuiling veroorzaken.
- Het nikkel zuivert P3 is makkelijk te gebruiken. Zonder productie tegen te houden, kan het direct aan de platerenoplossing worden toegevoegd en worden bewogen gelijk die de deklaagmislukking te verwijderen door de ionen van de metaalonzuiverheid wordt veroorzaakt.
- Het nikkel zuivert P3-de onzuiverheidsvlekkenmiddel van het Nikkelplateren heeft het effect van het verlengen van de grondige schoonmakende cyclus van de oplossing van het nikkelplateren, het verbeteren van de kwaliteit van de platerenlaag en het verbeteren van de productieefficiency. Na jaren van toepassing, zijn geen voorbeelden van wanverhouding met vernikkeld poetsmiddel tot dusver gevonden.
- Het nikkel zuivert P3 kan direct in de tank worden gezet die van het nikkelplateren onzuiverheden zoals Cu2+, Fe2+, Fe3+, Zn2+, Cr3+ etc. bevatten. Wanneer de oplossing van het nikkelplateren Cu2+ 40mg/L, Zn2+ 40mg/L, Fe3+ 120mg/L van Fe2++, Cr3+ 60mg/L of minder bevat, is het toevoegingsbedrag 1 ~ 2ml/L.
- Als een kleine hoeveelheid Nikkel zuivert wordt P3 vaak toegevoegd alvorens de platerenoplossing door de ionen wordt vervuild van het onzuiverheidsmetaal, kan het preventieve effect worden bereikt.
